您現在的位置是:首頁 > 標簽 > 掩模幾何像差中哪些與孔徑有關?光刻機是晶片製造的核心裝置之一. . .極紫外光線經過由80層Mo—Si結構多層膜反射鏡組成的聚光系統聚光後,照明反射式掩模,經縮小反射投影光學系統,將反射掩模上的圖形投影成像在矽片表面的光刻膠上掩模光刻曝光矽片圖形2021-06-06閱讀更多【創投行聚焦】半導體器件光刻工藝:入射點到晶片的距離叫什麼呢?透過縮短曝光裝置的波長、開發新型的光刻膠,發展掩模的效能(一種增強解析度的相移掩模PSM),多種曝光方法(比如電子束曝光、X射線曝光、離子束曝光和超紫外線(我們說地EUV)曝光)等等手段來提升光刻工藝曝光掩模光刻膠矽片光刻2021-05-18閱讀更多標籤雲美菲車河堂冬朗金櫃林曉涵華西街範代娣WLL由崎姜漢娜田雁寧屋莊水合肼多樣化ILCE楊二榮張堰鎮北棋K12S輪鬥洗