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知乎7千高贊,18步詳解:晶片幾千萬電晶體是如何整合的?
source=光刻離子注入微觀圖長這樣:再次光刻+蝕刻撤去保護, 中間那個就是Fin門部位的多晶矽/高K介質生長門部位的氧化層生長長成這樣源極漏極製作(光刻+ 離子注入)初層金屬/多晶矽貼片蝕刻+成型物理氣相積澱長出表面金屬層(因為是三維結
閱讀更多世界上所有半導體企業都離不開的光刻機是什麼,一口氣帶你搞懂
藝術光刻機的工作原理在整個晶片製造工藝中,幾乎每個工藝的實施,都離不開光刻的技術
閱讀更多幾何像差中哪些與孔徑有關?光刻機是晶片製造的核心裝置之一. . .
極紫外光線經過由80層Mo—Si結構多層膜反射鏡組成的聚光系統聚光後,照明反射式掩模,經縮小反射投影光學系統,將反射掩模上的圖形投影成像在矽片表面的光刻膠上
閱讀更多光刻膠的解析度、敏感度、對比度、對比度等指標,你都知道是什麼?
用於KrF、ArF、EUV線的光刻膠,一般都必須新增光致酸劑
閱讀更多【創投行聚焦】半導體器件光刻工藝:入射點到晶片的距離叫什麼呢?
透過縮短曝光裝置的波長、開發新型的光刻膠,發展掩模的效能(一種增強解析度的相移掩模PSM),多種曝光方法(比如電子束曝光、X射線曝光、離子束曝光和超紫外線(我們說地EUV)曝光)等等手段來提升光刻工藝
閱讀更多【光聚合】勞倫斯利弗莫爾國家實驗室發表基於機器學習的雙光子光刻
該研究團隊發展的機器學習演算法在雙光子列印過程中訓練了成千上萬套影片影象來建立識別引數設定如輻照時間和鐳射能量密度等引數設定的問題,並自動實現高高精度的質量探測
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