又一家國產晶片實現5nm晶片量產，留給ASML猶豫的時間不多了

近日芯原股份表示5nm系統晶片一次流片成功，代表著國產晶片又邁出了重要一步，而且由於芯原股份的特殊定位，將有助於更多國產晶片實現先進工藝晶片的量產，這為中國晶片打破晶片製造工藝瓶頸提供支援，震撼了ASML。

芯原股份的定位是一家晶片IP授權企業，即是它自己不直接向市場推出晶片，而是晶片設計代加工企業，即是為手機、平板電腦等晶片設計企業開發定製化解決方案，降低晶片企業開發先進晶片的難度。

此外芯原股份考慮到國內晶片製造技術的限制，開發了芯粒技術，即是將不同功能的晶片整合在同一顆晶片中，提升晶片效能，芯粒技術也是全球當前正積極開發的技術之一，可以有效提升成熟工藝的效能，這次流片的晶片正是集上述功能於一起的晶片。

當前國內最先進的晶片製造工藝是14nm，目前中芯國際正推進N+1、N+2工藝，預計可以接近7nm工藝，與芯原股份的晶片設計方案疊加就可以達到5nm工藝的效能，這對於中國晶片來說無疑是巨大的進步。

此前富滿微等國內晶片企業也已實現了5nm封裝技術，同樣有助於國產晶片突破晶片製造工藝的限制，獲得先進效能的晶片，業界人士認為達到7nm的效能就能滿足中國製造九成的晶片需求，而達到5nm基本上能滿足中國製造的絕大部分需求。

阻礙中國推進先進晶片製造工藝的正是ASML的EUV光刻機，目前僅有ASML能生產EUV光刻機，不過ASML受制於美國而未能對中國出售EUV光刻機，早在2018年中芯國際就支付了1。2億美元訂購EUV光刻機，然而直到目前尚未交付。

中國晶片行業顯然不會坐等，研發先進的芯粒技術正是打破晶片製造工藝限制的一個路徑，隨著中國的芯粒技術突破到5nm，ASML的EUV光刻機對中國晶片製造行業的重要性正在下降，而這對ASML將是打擊。

目前全球採購EUV光刻機的晶片製造企業已非常有限，日本晶片企業已研發繞開EUV光刻機的NIL工藝，美國晶片企業美光也已研發繞開EUV光刻機的1β工藝，臺積電由於先進工藝產能過剩已不會大規模採購EUV光刻機，Intel的Intel 4工廠已完成裝置進駐，如此情況下中國晶片其實已成為ASML最後一個需要採購EUV光刻機的大客戶。

如果ASML無法從中國市場獲得訂單，那麼ASML的業績可能會因此而大幅衰退，日本光刻機則可以藉助中國市場重振雄風，ASML回想當年被日本光刻機吊打的日子就不寒而慄。正是有鑑於此，ASML和它所在的荷蘭都已發聲表示ASML是一家歐洲企業，應該擁有自由出貨的權利，近期據稱荷蘭正與美國商討允許ASML自由出貨EUV光刻機，都可以看出中國在先進效能晶片方面取得的進展已讓ASML緊張了。

中國知名院士倪光南指出先進技術是求不來的、買不來的，只有自立自強，而中國在先進晶片技術方面持續的突破已讓外媒震驚，顯示出中國晶片行業自強不息的精神，相信ASML很快會做出正確的決定，或許EUV光刻機對中國出貨的時間正在接近。