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11月17日強勢股點評
藝術今年4月後走出一波3浪結構反彈,回撥後再度上漲,目前可能是c浪反彈,如果能走出,那麼會是5浪結構的上行,目標是與a浪等長,接近頸線位強阻力46元一線
閱讀更多艾森股份毛利率呈現下降趨勢,低於同行均值近10個百分點
艾森股份主營電子化學品的研發、生產和銷售,圍繞著電子電鍍、光刻兩個半導體制造及封裝過程中的工藝環節,形成了電鍍液及配套試劑、光刻膠及配套試劑兩大產品板塊
閱讀更多中國為何禁止向俄羅斯出口龍芯處理器?
旅遊龍芯3C5000也就是說目前國內能夠實現高階龍芯處理器生產的裝置仍需要採用進口裝置,這也就意味著會受到供貨方的限制,如果人家不希望龍芯向俄羅斯供貨,那隻需要向為龍芯代工的中芯國際施壓就可達到目的
閱讀更多晶片製造為何這麼難?
藝術晶片製造中四大核心技術:CMP拋光液技術、CMP拋光墊技術、光刻膠技術、光刻機技術晶片的製造工藝,分為兩道工序:晶圓製造工序和在晶圓上光刻積體電路圖工序
閱讀更多【創投行聚焦】半導體光刻工藝是半導體制造中最為重要的工藝步驟!
藝術光刻工藝過程一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測等工序
閱讀更多光刻膠的解析度、敏感度、對比度、對比度等指標,你都知道是什麼?
用於KrF、ArF、EUV線的光刻膠,一般都必須新增光致酸劑
閱讀更多光刻膠是什麼材料做成的?對華為來說這場半導體之戰有何借鑑?
藝術2019年7月初,日韓突顯爭端,日本為了打壓韓國半導體工業,限制對韓出口含氟聚醯亞胺、光刻膠和高純度氟化氫
閱讀更多【創投行聚焦】半導體器件光刻工藝:入射點到晶片的距離叫什麼呢?
透過縮短曝光裝置的波長、開發新型的光刻膠,發展掩模的效能(一種增強解析度的相移掩模PSM),多種曝光方法(比如電子束曝光、X射線曝光、離子束曝光和超紫外線(我們說地EUV)曝光)等等手段來提升光刻工藝
閱讀更多聚合劑是什麼?為什麼半導體制造中的光刻膠工藝中的聚合劑是什麼?
遊戲從全球區域市場來看,中國半導體光刻膠市場規模佔全球比重最大,達到32%
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