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lgd聯手延世大學研發新型光刻技術,可實現超精細照明的照片光刻膠

由 行行查 發表于 藝術2021-06-03

簡介光刻(Photolithography)技術是指半導體和麵板製程中,將光刻膠(Photo resist)感光液薄塗於晶圓或玻璃上,然後將繪製 Pattern 的光罩置於其上,透過照光形成電路的技術

感光液是幹嘛用的

LG 顯示(以下 LGD)透過產學合作孵化課題支援,聯手延世大學 Shim Uyeong(新材料工學科)教授團隊,開發出革新性新面板技術。研發成果刊登於國際學術期刊 Nature Communications。根據韓媒 inews24 報道,研究團隊利用柔性透明的新型 Photo 光罩實現了超精細 Pattern,是一種全新的光刻(Photolithography)技術。此技術可應用至 LCD 和 OLED 製程。

LCD 、OLED 製程迎來革命性反轉,柔性透明光罩實現超精細Pattern

光刻(Photolithography)技術是指半導體和麵板製程中,將光刻膠(Photo resist)感光液薄塗於晶圓或玻璃上,然後將繪製 Pattern 的光罩置於其上,透過照光形成電路的技術。而此電路的成型,主要取決於稱之為 Photo mask 的核心部件。究團隊為了克服傳統光罩的硬性特徵,開發出柔性、透明的新光罩製程,利用原有曝光裝置實現了 100 分之 1 水平的數十奈米單位超精細 Pattern。超精細 Pattern 繪製出的電路是面板實現超高畫素不可或缺的關鍵。而柔性材質的光罩,還可應用於曲面基板,將有助於多種形態的面板生產。

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TFT-LCD液晶顯示技術,最早誕生於20世紀60年代美國,美國RCA公司薩夫諾中心發現了動態散射液晶,後續西屋電氣發明了TN-LCD(扭曲相列型液晶顯示器),TFT-LCD真正實現產業化是在20世紀90年代,日本企業相繼建成TFT-LCD第一代線、第二代線,將TFT-LCD應用到電子錶等產品中。回顧整個TFT-LCD產業的發展歷程,經歷了三次的產業轉移。

LCD 、OLED 製程迎來革命性反轉,柔性透明光罩實現超精細Pattern

LCD產業鏈可分為上游基礎材料製備、中游面板製造和下游終端產品製造三個環節。液晶材料是液晶面板的核心組成部分,生產企業主要分為兩類,一類是生產液晶單體、中間體的前端材料生產商,另一類是生產混合液晶的終端材料生產商,公司主要從事液晶中間體制備、液晶單體合成及提純業務。由於在終端材料混晶的生產中,對配方的技術要求高,提純工藝複雜,因此具有更高的技術壁壘,目前全球混晶材料主要生產企業為德國Merck、日本JNC (CHISSO全資子公司)和DIC三大公司,全球市場份額合計佔比接近90%,國內混晶材料生產企業包括金訊陽光、江蘇和成、誠志永華等。

LCD 、OLED 製程迎來革命性反轉,柔性透明光罩實現超精細Pattern

檢測貫穿面板製造全程,檢測環節是各製程生產中的必備環節。面板檢測行業進入壁壘高,雖然平板顯示產業發展較快,但能夠提供檢測裝置的企業較少,尤其是能夠提供Array 和Cell 等前端製程檢測裝置的企業更少。國內平板顯示檢測行業規模正在迅速擴大,中前段裝置國產替代空間巨大。一塊麵板質量合格,必須達到較高的技術指標,因此必須使用檢測裝置在每一製程的最後對玻璃基板或者面板成品進行檢測。

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LCD 、OLED 製程迎來革命性反轉,柔性透明光罩實現超精細Pattern

小編:痴冬

Tags:LCD面板製程液晶光罩